セルロイド工業発祥記念碑

東京都葛飾区東立石3-3-1渋江公園内
連絡方法
営業時間
  • 営業日: 

基本情報

大正3年、この地に大規模なセルロイド工場が設立され、周辺地域はセルロイド工業の街として発達した。記念碑の建つ工場跡地は、現在ではテニスコートのあるバラの花の美しい公園となっている。

住所

東京都葛飾区東立石3-3-1渋江公園内

アクセス

(1)京成線立石駅から徒歩で

その他

創建年代:昭和27(1952)年


詳細情報

  • 予算

    -

  • 駐車場

    -


地図


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